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資料名：
巻： 113 号： 87(SDM2013 44-64) ページ： 97-100 発行年： 2013年06月11日
JST資料番号： S0532B ISSN： 0913-5685 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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文献
J-GLOBAL ID：201302214129935906
整理番号：13A1222901
FTIR-ATRスペクトルによる4H-SiCと熱酸化膜の界面構造の解析
Study on Near-interface Structures of Thermal Oxides Grown on 4H-SiC Characterized by Infrared Spectroscopy
喜多浩之
(東大 大学院工学系研究科)
,
喜多浩之
(JST-さきがけ)
,
平井悠久
(東大 大学院工学系研究科)
資料名：
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 113 号： 87(SDM2013 44-64) ページ： 97-100 発行年： 2013年06月11日
JST資料番号： S0532B ISSN： 0913-5685 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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