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文献
J-GLOBAL ID:201302235722563508   整理番号:13A1826800

高出力インパルスマグネトロンスパッタリングに基づくサイズ選別ナノクラスタイオン用の高フラックスイオン源の開発

Development of High-flux Ion Source for Size-selected Nanocluster Ions Based on High-power Impulse Magnetron Sputtering
著者 (9件):
TSUNOYAMA Hironori
(Dep. of Chemistry, Fac. of Sci. and Technol., Keio Univ.)
TSUNOYAMA Hironori
(Exploratory Res. for Advanced Technol., Japan Sci. and Technol. Agency)
ZHANG Chuhang
(Dep. of Chemistry, Fac. of Sci. and Technol., Keio Univ.)
ZHANG Chuhang
(Exploratory Res. for Advanced Technol., Japan Sci. and Technol. Agency)
AKATSUKA Hiroki
(Dep. of Chemistry, Fac. of Sci. and Technol., Keio Univ.)
SEKIYA Hiroki
(Dep. of Chemistry, Fac. of Sci. and Technol., Keio Univ.)
NAGASE Tomomi
(Dep. of Chemistry, Fac. of Sci. and Technol., Keio Univ.)
NAKAJIMA Atsushi
(Dep. of Chemistry, Fac. of Sci. and Technol., Keio Univ.)
NAKAJIMA Atsushi
(Exploratory Res. for Advanced Technol., Japan Sci. and Technol. Agency)

資料名:
Chemistry Letters  (Chemistry Letters)

巻: 42  号:ページ: 857-859 (J-STAGE)  発行年: 2013年 
JST資料番号: S0742A  ISSN: 0366-7022  CODEN: CMLTAG  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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