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著者 (8件)：
資料名：
巻： 113 号： 87(SDM2013 44-64) ページ： 25-28 発行年： 2013年06月11日
JST資料番号： S0532B ISSN： 0913-5685 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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文献
J-GLOBAL ID：201302251330609386
整理番号：13A1222886
HfO2/Ge界面へのルチル型TiO2挿入によるGeOx生成の抑制
Suppression of GeOx with rutile TiO2 Interlayer between HfO2 and Ge
小橋和義
(明治大)
,
小橋和義
(物質・材料研究機構 国際ナノアーキテクトニクス研究拠点)
,
長田貴弘
(物質・材料研究機構 国際ナノアーキテクトニクス研究拠点)
,
生田目俊秀
(明治大)
,
生田目俊秀
(物質・材料研究機構 国際ナノアーキテクトニクス研究拠点)
,
山下良之
(物質・材料研究機構 国際ナノアーキテクトニクス研究拠点)
,
小椋厚志
(明治大)
,
知京豊裕
(物質・材料研究機構 国際ナノアーキテクトニクス研究拠点)
資料名：
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 113 号： 87(SDM2013 44-64) ページ： 25-28 発行年： 2013年06月11日
JST資料番号： S0532B ISSN： 0913-5685 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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