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文献
J-GLOBAL ID:201302262599966250   整理番号:13A1513793

低コスト・マルチVt非対称Halo MOSによるVmin改善とスタンバイリーク低減を実現した45nm 6T-SRAM

A cost-effective 45nm 6T-SRAM reducing 50mV Vmin and 53% standby leakage with multi-Vt asymmetric halo MOS and write assist circuitry
著者 (10件):
新居浩二
(ルネサスエレクトロニクス)
新居浩二
(金沢大)
薮内誠
(ルネサスエレクトロニクス)
薮内誠
(金沢大)
藤原英弘
(ルネサスエレクトロニクス)
塚本康正
(ルネサスエレクトロニクス)
石井雄一郎
(ルネサスエレクトロニクス)
石井雄一郎
(金沢大)
松村哲哉
(日本大)
松田吉雄
(金沢大)

資料名:
電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))

巻: 113  号: 173(ICD2013 47-69)  ページ: 53-57  発行年: 2013年07月25日 
JST資料番号: S0532B  ISSN: 0913-5685  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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