文献
J-GLOBAL ID:201302262599966250
整理番号:13A1513793
低コスト・マルチVt非対称Halo MOSによるVmin改善とスタンバイリーク低減を実現した45nm 6T-SRAM
A cost-effective 45nm 6T-SRAM reducing 50mV Vmin and 53% standby leakage with multi-Vt asymmetric halo MOS and write assist circuitry
著者 (10件):
新居浩二
(ルネサスエレクトロニクス)
,
新居浩二
(金沢大)
,
薮内誠
(ルネサスエレクトロニクス)
,
薮内誠
(金沢大)
,
藤原英弘
(ルネサスエレクトロニクス)
,
塚本康正
(ルネサスエレクトロニクス)
,
石井雄一郎
(ルネサスエレクトロニクス)
,
石井雄一郎
(金沢大)
,
松村哲哉
(日本大)
,
松田吉雄
(金沢大)
資料名:
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻:
113
号:
173(ICD2013 47-69)
ページ:
53-57
発行年:
2013年07月25日
JST資料番号:
S0532B
ISSN:
0913-5685
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)