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資料名：
巻： 113 号： 87(SDM2013 44-64) ページ： 61-66 発行年： 2013年06月11日
JST資料番号： S0532B ISSN： 0913-5685 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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文献
J-GLOBAL ID：201302274531865631
整理番号：13A1222894
SiOx/TiO2積層したMIMダイオードにおける抵抗変化特性評価
Resistive Switching Properties of SiOx/TiO2 Multi-Stack in Ti-electrode MIM Diodes
大田晃生
(広島大 大学院先端物質科学研究科)
,
福嶋太紀
(名古屋大 大学院工学研究科)
,
牧原克典
(名古屋大 大学院工学研究科)
,
村上秀樹
(広島大 大学院先端物質科学研究科)
,
東清一郎
(広島大 大学院先端物質科学研究科)
,
宮崎誠一
(名古屋大 大学院工学研究科)
資料名：
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 113 号： 87(SDM2013 44-64) ページ： 61-66 発行年： 2013年06月11日
JST資料番号： S0532B ISSN： 0913-5685 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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