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文献
J-GLOBAL ID:201302282432677788   整理番号:13A1795995

垂直磁化CoFeB/MgO磁気トンネル接合と下層硬磁石による低電流磁壁運動MRAM

Low-Current Domain Wall Motion MRAM with Perpendicularly Magnetized CoFeB/MgO Magnetic Tunnel Junction and Underlying Hard Magnets
著者 (17件):
SUZUKI T.
(Renesas Electronics Corp., Kanagawa, JPN)
TANIGAWA H.
(Renesas Electronics Corp., Kanagawa, JPN)
KOBAYASHI Y.
(Renesas Electronics Corp., Kanagawa, JPN)
MORI K.
(Renesas Electronics Corp., Kanagawa, JPN)
ITO Y.
(Renesas Electronics Corp., Kanagawa, JPN)
OZAKI Y.
(Renesas Electronics Corp., Kanagawa, JPN)
SUEMITSU K.
(Renesas Electronics Corp., Kanagawa, JPN)
KITAMURA T.
(Renesas Electronics Corp., Kanagawa, JPN)
NAGAHARA K.
(Renesas Electronics Corp., Kanagawa, JPN)
KARIYADA E.
(Renesas Electronics Corp., Kanagawa, JPN)
OHSHIMA N.
(Renesas Electronics Corp., Kanagawa, JPN)
FUKAMI S.
(Tohoku Univ., Miyagi, JPN)
YAMANOUCHI M.
(Tohoku Univ., Miyagi, JPN)
IKEDA S.
(Tohoku Univ., Miyagi, JPN)
HAYASHI M.
(National Inst. Materials Sci., Ibaraki, JPN)
SAKAO M.
(Renesas Electronics Corp., Kanagawa, JPN)
OHNO H.
(Tohoku Univ., Miyagi, JPN)

資料名:
Digest of Technical Papers. Symposium on VLSI Technology  (Digest of Technical Papers. Symposium on VLSI Technology)

巻: 2013  ページ: 113-114  発行年: 2013年 
JST資料番号: A0035B  ISSN: 0743-1562  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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