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著者 (5件)：
資料名：
巻： 542 ページ： 242-245 発行年： 2013年09月02日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：201302290080282276
整理番号：13A1323545
Al2O3/AlリッチなAl2O3/SiO2積層膜の電荷捕獲特性の熱的アニールによる改善
Improvement of charge trapping characteristics of Al2O3/Al-rich Al2O3/SiO2 stacked films by thermal annealing
NAKATA Shunji
(NTT Microsystem Integration Laboratories, Atsugi 243-0198, JPN)
,
KATO Takashi
(Graduate School of Natural Sci. and Technol., Kanazawa Univ., Kanazawa 920-1192, JPN)
,
OZAKI Shinya
(Graduate School of Natural Sci. and Technol., Kanazawa Univ., Kanazawa 920-1192, JPN)
,
KAWAE Takeshi
(Graduate School of Natural Sci. and Technol., Kanazawa Univ., Kanazawa 920-1192, JPN)
,
MORIMOTO Akiharu
(Graduate School of Natural Sci. and Technol., Kanazawa Univ., Kanazawa 920-1192, JPN)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 542 ページ： 242-245 発行年： 2013年09月02日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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