文献
J-GLOBAL ID:201302291948019484
整理番号:13A1682578
高k/金属のゲートスタックを有するMOSFET用の低温マイクロ波アニーリング
Low-Temperature Microwave Annealing for MOSFETs With High-k/Metal Gate Stacks
著者 (8件):
LEE Yao-Jen
(National Chung Hsing Univ., Taichung, TWN)
,
TSAI Bo-An
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
,
LAI Chiung-Hui
(Chung Hua Univ., Hsinchu, TWN)
,
CHEN Zheng-Yao
(Chung Hua Univ., Hsinchu, TWN)
,
HSUEH Fu-Kuo
(National Nano Device Lab., Hsinchu, TWN)
,
SUNG Po-Jung
(National Nano Device Lab., Hsinchu, TWN)
,
CURRENT Michael I.
(Current Scientific, CA, USA)
,
LUO Chih-Wei
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
資料名:
IEEE Electron Device Letters
(IEEE Electron Device Letters)
巻:
34
号:
10
ページ:
1286-1288
発行年:
2013年10月
JST資料番号:
B0344B
ISSN:
0741-3106
CODEN:
EDLEDZ
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)