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文献
J-GLOBAL ID:201402204190417146   整理番号:14A0295915

MOVPE再成長により形成した(111)B面を有する高移動度三角形状InGaAs-OI nMOSFETs

High Electron Mobility Triangular InGaAs-OI nMOSFETs with (111)B Side Surfaces Formed by MOVPE Regrowth
著者 (12件):
入沢寿史
(産総研 グリーンナノエレクトロニクスセ)
小田穣
(産総研 グリーンナノエレクトロニクスセ)
池田圭司
(産総研 グリーンナノエレクトロニクスセ)
守山佳彦
(産総研 グリーンナノエレクトロニクスセ)
三枝栄子
(産総研 グリーンナノエレクトロニクスセ)
JEVASUWAN W.
(産総研 グリーンナノエレクトロニクスセ)
前田辰郎
(産総研 グリーンナノエレクトロニクスセ)
市川麿
(住友化学)
長田剛規
(住友化学)
秦雅彦
(住友化学)
宮本恭幸
(東京工大)
手塚勉
(産総研 グリーンナノエレクトロニクスセ)

資料名:
電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))

巻: 113  号: 420(SDM2013 135-146)  ページ: 9-12  発行年: 2014年01月22日 
JST資料番号: S0532B  ISSN: 0913-5685  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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