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文献
J-GLOBAL ID:201402210854342769   整理番号:14A0442060

約150eVの低エネルギー領域における凹面電極を用いて引き出す高電流密度イオンビームの自己集束

Self-focusing of a high current density ion beam extracted with concave electrodes in a low energy region around 150 eV
著者 (4件):
HIRANO Y.
(Innovative Plasma Technologies Group, National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
KIYAMA S.
(Innovative Plasma Technologies Group, National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
KOGUCHI H.
(Innovative Plasma Technologies Group, National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
SAKAKITA H.
(Innovative Plasma Technologies Group, National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)

資料名:
Review of Scientific Instruments  (Review of Scientific Instruments)

巻: 85  号:ページ: 02A728-02A728-3  発行年: 2014年02月 
JST資料番号: D0517A  ISSN: 0034-6748  CODEN: RSINAK  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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