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文献
J-GLOBAL ID:201402222615729838   整理番号:14A0363417

SiN/SiCナノ積層膜中の酸化で誘導された亀裂回復動作

Crack-healing behavior induced by oxidation in SiN/SiC nanolaminated films
著者 (4件):
NAKATANI Masanori
NISHIMURA Junki
HANAKI Satoshi
UCHIDA Hitoshi

資料名:
Thin Solid Films  (Thin Solid Films)

巻: 556  ページ: 68-73  発行年: 2014年04月01日 
JST資料番号: B0899A  ISSN: 0040-6090  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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