文献
J-GLOBAL ID:201402230648606220
整理番号:14A1031498
革新的概念に基づく処理困難な結晶の新しい化学機械研磨/プラズマ化学的気化加工法複合加工法(CMP/P-CVM)
Novel Chemical Mechanical Polishing/Plasma-Chemical Vaporization Machining (CMP/P-CVM) Combined Processing of Hard-to-Process Crystals Based on Innovative Concepts
著者 (8件):
DOI Toshiro K.
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
SANO Yasuhisa
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
KUROWAKA Syuhei
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
AIDA Hideo
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
AIDA Hideo
(Namiki Precision Jewel Co., Ltd., Tokyo, JPN)
,
OHNISHI Osamu
(Miyazaki Univ., Miyazaki, JPN)
,
UNEDA Michio
(Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
,
OHYAMA Koki
(Namiki Precision Jewel Co., Ltd., Tokyo, JPN)
資料名:
Sensors and Materials
(Sensors and Materials)
巻:
26
号:
6
ページ:
403-415
発行年:
2014年
JST資料番号:
L0338A
ISSN:
0914-4935
CODEN:
SENMER
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)