文献
J-GLOBAL ID:201402240839357861
整理番号:14A0493213
イオン・ビームにより誘起されるシリコン・カーバイド金属酸化物半導体素子の破壊電圧
Breakdown Voltage In Silicon Carbide Metal-Oxide-Semiconductor Devices Induced By Ion Beams
著者 (11件):
OHSHIMA T.
(Japan Atomic Energy Agency (JAEA), Gunma, JPN)
,
DEKI M.
(Japan Atomic Energy Agency (JAEA), Gunma, JPN)
,
DEKI M.
(Univ. Tokushima, Tokushima, JPN)
,
MAKINO T.
(Japan Atomic Energy Agency (JAEA), Gunma, JPN)
,
IWAMOTO N.
(Japan Atomic Energy Agency (JAEA), Gunma, JPN)
,
ONODA S.
(Japan Atomic Energy Agency (JAEA), Gunma, JPN)
,
HIRAO T.
(Japan Atomic Energy Agency (JAEA), Gunma, JPN)
,
KOJIMA K.
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
TOMITA T.
(Univ. Tokushima, Tokushima, JPN)
,
MATSUO S.
(Univ. Tokushima, Tokushima, JPN)
,
HASHIMOTO S.
(Univ. Tokushima, Tokushima, JPN)
資料名:
AIP Conference Proceedings
(AIP Conference Proceedings)
巻:
1525
ページ:
654-658
発行年:
2013年
JST資料番号:
D0071C
ISSN:
0094-243X
資料種別:
会議録 (C)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)