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文献
J-GLOBAL ID:201402260664399575   整理番号:14A0414759

反応性RFスパッタリング法で作成した非晶質窒化カーボンのDC伝導度の研究

DC electrical conductivity study of amorphous carbon nitride films prepared by reactive RF magnetron sputtering
著者 (6件):
TAMURA Naoyuki
(National Defense Acad., Kanagawa, JPN)
AONO Masami
(National Defense Acad., Kanagawa, JPN)
HARATA Tomo
(National Defense Acad., Kanagawa, JPN)
KISHIMURA Hiroaki
(National Defense Acad., Kanagawa, JPN)
KITAZAWA Nobuaki
(National Defense Acad., Kanagawa, JPN)
WATANABE Yoshihisa
(National Defense Acad., Kanagawa, JPN)

資料名:
Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)

巻: 53  号: 2S  ページ: 02BC03.1-02BC03.4  発行年: 2014年02月 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  CODEN: JJAPB6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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