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文献
J-GLOBAL ID:201402272253991242   整理番号:14A0682413

Si(111)基板上BaSi2エピタキシャル膜の結晶・光学特性評価とガラス基板上への展開

Fabrication and characterization of BaSi2 epitaxial films on Si (111) for developing BaSi2 on glass
著者 (10件):
高部涼太
(筑波大 大学院)
都甲薫
(筑波大 大学院)
沼田諒平
(筑波大 大学院)
原康祐
(名古屋大)
馬場正和
(筑波大 大学院)
DU Weijie
(筑波大 大学院)
宇佐美徳隆
(名古屋大)
宇佐美徳隆
(JST-CREST)
末益崇
(筑波大 大学院)
末益崇
(JST-CREST)

資料名:
電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))

巻: 114  号: 2(OME2014 1-15)  ページ: 35-37  発行年: 2014年04月03日 
JST資料番号: S0532B  ISSN: 0913-5685  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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