文献
J-GLOBAL ID:201402272253991242
整理番号:14A0682413
Si(111)基板上BaSi2エピタキシャル膜の結晶・光学特性評価とガラス基板上への展開
Fabrication and characterization of BaSi2 epitaxial films on Si (111) for developing BaSi2 on glass
著者 (10件):
高部涼太
(筑波大 大学院)
,
都甲薫
(筑波大 大学院)
,
沼田諒平
(筑波大 大学院)
,
原康祐
(名古屋大)
,
馬場正和
(筑波大 大学院)
,
DU Weijie
(筑波大 大学院)
,
宇佐美徳隆
(名古屋大)
,
宇佐美徳隆
(JST-CREST)
,
末益崇
(筑波大 大学院)
,
末益崇
(JST-CREST)
資料名:
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻:
114
号:
2(OME2014 1-15)
ページ:
35-37
発行年:
2014年04月03日
JST資料番号:
S0532B
ISSN:
0913-5685
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)