文献
J-GLOBAL ID:201402289726986640
整理番号:14A0552267
如何にしてポストアニールによって損傷結晶の回復を監視することができるか?
How Can We Monitor the Recovery of a Damaged Crystal by the Post Annealing?
著者 (6件):
NAKAGAWA Sachiko T.
(Graduate School of Sci., Okayama Univ. of Sci.)
,
MURAKAMI Tomoaki
(Graduate School of Sci., Okayama Univ. of Sci.)
,
NOMURA Masakatsu
(Graduate School of Sci., Okayama Univ. of Sci.)
,
KANDA Hisao
(National Inst. for Materials Sci.)
,
SUKEDAI Eiichi
(Graduate School of Sci., Okayama Univ. of Sci.)
,
WHITLOW Harry J.
(Inst. des Microtechnologies Appliquees Arc, Haute-Ecole Arc Ingenierie)
資料名:
電気学会論文誌 C
(IEEJ Transactions on Electronics, Information and Systems)
巻:
134
号:
4
ページ:
479-483 (J-STAGE)
発行年:
2014年
JST資料番号:
S0810A
ISSN:
0385-4221
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)