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資料名：
巻： 54 号： 5 ページ： 055202.1-055202.5 発行年： 2015年05月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：201502207109566148
整理番号：15A0772590
シンクロトロン放射を用いたX線光電子分光法によるAl/Si(111)薄膜の酸化に於ける深さ分析
Depth analysis on oxidation of Al/Si(111) thin film by X-ray photoelectron spectroscopy using synchrotron radiation
IMAMURA Motoyasu
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki, JPN)
,
IMAMURA Motoyasu
(Univ. Tsukuba, Ibaraki, JPN)
,
KOBAYASHI Eiichi
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki, JPN)
,
SASAKI Masahiro
(Univ. Tsukuba, Ibaraki, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 54 号： 5 ページ： 055202.1-055202.5 発行年： 2015年05月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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