文献
J-GLOBAL ID:201502210611738581
整理番号:15A1202654
微傾斜偏角4H-SiC基板上に成長させた3C-SiCを用いた水素発生用の光電陰極
Photocathode for hydrogen generation using 3C-SiC epilayer grown on vicinal off-angle 4H-SiC substrate
著者 (3件):
ICHIKAWA Naoto
(Nagoya Inst. of Technol., Nagoya, JPN)
,
KATO Masashi
(Nagoya Inst. of Technol., Nagoya, JPN)
,
ICHIMURA Masaya
(Nagoya Inst. of Technol., Nagoya, JPN)
資料名:
Applied Physics Express
(Applied Physics Express)
巻:
8
号:
9
ページ:
091301.1-091301.3
発行年:
2015年09月
JST資料番号:
F0599C
ISSN:
1882-0778
CODEN:
APEPC4
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)