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著者 (6件)：
資料名：
巻： 8 号： 6 ページ： 066201.1-066201.4 発行年： 2015年06月
JST資料番号： F0599C ISSN： 1882-0778 CODEN： APEPC4 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：201502215450421150
整理番号：15A0877814
Ar/H2のrfマグネトロンスパッタによるSiとSiO2基板上のシリコンナノワイヤの成長
Silicon nanowire growth on Si and SiO2 substrates by rf magnetron sputtering in Ar/H2
YAMADA Ikumi
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
HIRANO Yutaro
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
NISHIMURA Kenkichi
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
TAKAO Yoshinori
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
ERIGUCHI Koji
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
ONO Kouichi
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
資料名：
Applied Physics Express
(Applied Physics Express)
巻： 8 号： 6 ページ： 066201.1-066201.4 発行年： 2015年06月
JST資料番号： F0599C ISSN： 1882-0778 CODEN： APEPC4 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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