文献
J-GLOBAL ID:201502220100718692
整理番号:15A0208886
SU-8レジスト薄膜の誘電率の周波数分散
Frequency Dispersion of Permittivity of SU-8 Resist Thin Film
著者 (2件):
KAWAI Akira
(Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN)
,
OHTANI Shogo
(Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN)
資料名:
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻:
27
号:
6
ページ:
711-712
発行年:
2014年
JST資料番号:
L0202A
ISSN:
0914-9244
CODEN:
JSTEEW
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)