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文献
J-GLOBAL ID:201502234005893534   整理番号:15A0700844

300mmウェハーに60nmCMOS技術で作製した閾電圧が調整出来る垂直MOSFETsに於ける低周波ノイズの削減

Low-frequency noise reduction in vertical MOSFETs having tunable threshold voltage fabricated with 60nm CMOS technology on 300mm wafer process
著者 (7件):
IMAMOTO Takuya
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
IMAMOTO Takuya
(JST-ACCEL, Sendai, JPN)
MA Yitao
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
MURAGUCHI Masakazu
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
MURAGUCHI Masakazu
(JST-ACCEL, Sendai, JPN)
ENDOH Tetsuo
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
ENDOH Tetsuo
(JST-ACCEL, Sendai, JPN)

資料名:
Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)

巻: 54  号: 4S  ページ: 04DC11.1-04DC11.7  発行年: 2015年04月 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  CODEN: JJAPB6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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