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J-GLOBAL ID:201502255624448500   整理番号:15A0561626

ウエハースケールの均一性を持つ,原子3個分の厚さの高移動度半導体膜

High-mobility three-atom-thick semiconducting films with wafer-scale homogeneity
著者 (12件):
KANG Kibum
(Cornell Univ., New York, USA)
HUANG Lujie
(Cornell Univ., New York, USA)
KIM Cheol-Joo
(Cornell Univ., New York, USA)
PARK Jiwoong
(Cornell Univ., New York, USA)
XIE Saien
(Cornell Univ., New York, USA)
HAN Yimo
(Cornell Univ., New York, USA)
HUANG Pinshane Y.
(Cornell Univ., New York, USA)
MULLER David
(Cornell Univ., New York, USA)
MAK Kin Fai
(Kavli Inst. at Cornell for Nanoscale Sci., New York, USA)
MULLER David
(Kavli Inst. at Cornell for Nanoscale Sci., New York, USA)
PARK Jiwoong
(Kavli Inst. at Cornell for Nanoscale Sci., New York, USA)
MAK Kin Fai
(Cornell Univ., New York, USA)

資料名:
Nature (London)  (Nature (London))

巻: 520  号: 7549  ページ: 656-660  発行年: 2015年04月30日 
JST資料番号: D0193B  ISSN: 0028-0836  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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