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著者 (3件)：
資料名：
巻： 106 号： 3 ページ： 033103-033103-4 発行年： 2015年01月19日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：201502267071219629
整理番号：15A0202826
ヘリウムイオンビームによるグラフェンの直接ナノパターン形成
Direct nano-patterning of graphene with helium ion beams
NAITOU Y.
(Nanoelectronics Res. Inst., National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), 1-1-1 Higashi, Tsukuba ...)
,
IIJIMA T.
(Nanoelectronics Res. Inst., National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), 16-1 Onogawa, Tsukuba ...)
,
OGAWA S.
(Nanoelectronics Res. Inst., National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), 16-1 Onogawa, Tsukuba ...)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 106 号： 3 ページ： 033103-033103-4 発行年： 2015年01月19日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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