文献
J-GLOBAL ID:201502272507436578
整理番号:15A0228632
凝縮性代替可能クロロフルオロカーボン雰囲気を用いた革新的なUVナノインプリントリソグラフィー
Innovative UV nanoimprint lithography using a condensable alternative chlorofluorocarbon atmosphere
著者 (8件):
MATSUI Shinji
(Lab. of Advanced Sci. and Technol. for Ind., Univ. of Hyogo, 3-1-2 Koto, Kamigori, Ako, Hyogo 678-1201, JPN)
,
MATSUI Shinji
(JST-CREST, 5 Sambancho, Chiyoda, Tokyo 102-0075, JPN)
,
HIROSHIMA Hiroshi
(Res. Center for Ubiquitous MEMS and Micro Engineering, National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. ...)
,
HIROSHIMA Hiroshi
(JST-CREST, 5 Sambancho, Chiyoda, Tokyo 102-0075, JPN)
,
HIRAI Yoshihiko
(Graduate School of Engineering, Osaka Prefecture Univ., 1-1 Gakuen-cho, Nakaku, Sakai, Osaka 599-8531, JPN)
,
HIRAI Yoshihiko
(JST-CREST, 5 Sambancho, Chiyoda, Tokyo 102-0075, JPN)
,
NAKAGAWA Masaru
(Inst. of Multidisciplinary Res. for Advanced Materials, Tohoku Univ., 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577, JPN)
,
NAKAGAWA Masaru
(JST-CREST, 5 Sambancho, Chiyoda, Tokyo 102-0075, JPN)
資料名:
Microelectronic Engineering
(Microelectronic Engineering)
巻:
133
ページ:
134-155
発行年:
2015年02月05日
JST資料番号:
C0406B
ISSN:
0167-9317
CODEN:
MIENEF
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
文献レビュー
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)