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著者 (3件)：
資料名：
巻： 41 号： 1 ページ： 97-100 (J-STAGE) 発行年： 2016年
JST資料番号： L4468A ISSN： 1382-3469 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：201602204410316384
整理番号：16A0260077
オフ角シリコン基板上に製膜したβ-FeSi2RFスパッタ膜におけるシリコン結晶粒の偏在
Uneven Distribution of Silicon Crystalline Grains in RF-Sputtered β-FeSi2 Films Deposited on Off-Oriented Silicon Substrate
UEMATSU T.
(Dep. of Electrical and Electronic Engineering, Graduate School of Sci. and Engineering, Kansai Univ.)
,
NAKAMURA K.
(Dep. of Electrical and Electronic Engineering, Graduate School of Sci. and Engineering, Kansai Univ.)
,
NAKAMURA K.
(Dep. of Electrical and Electronic Engineering, Fac. of Engineering Sci., Kansai Univ.)
資料名：
Transactions of the Materials Research Society of Japan
(Transactions of the Materials Research Society of Japan)
巻： 41 号： 1 ページ： 97-100 (J-STAGE) 発行年： 2016年
JST資料番号： L4468A ISSN： 1382-3469 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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