文献
J-GLOBAL ID:201602210147914956
整理番号:16A0131265
DMDベースのグレースケールリソグラフィを使った3D微細構造のための数値最適化の実験研究
Experimental Study of Numerical Optimization for 3-D Microstructuring Using DMD-Based Grayscale Lithography
著者 (7件):
MA Xiaoxu
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
KATO Yoshiki
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
VAN KEMPEN Floris
(Delft Univ. Technol., Delft, NLD)
,
HIRAI Yoshikazu
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
TSUCHIYA Toshiyuki
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
VAN KUELEN Fred
(Delft Univ. Technol., Delft, NLD)
,
TABATA Osamu
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
資料名:
Journal of Microelectromechanical Systems
(Journal of Microelectromechanical Systems)
巻:
24
号:
6
ページ:
1856-1867
発行年:
2015年12月
JST資料番号:
W0357A
ISSN:
1057-7157
CODEN:
JMIYET
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)