文献
J-GLOBAL ID:201602211166173220
整理番号:16A0131011
コールドウォール型CVD装置を用いたリチウムドープ酸化亜鉛薄膜の作製
Preparation of Lithium Doped Zinc Oxide Thin Film via Cold Wall Chemical Vapor Deposition Reactor
著者 (5件):
黒田晋吾
(東海大 大学院工学研究科)
,
大久保達生
(東海大 大学院工学研究科)
,
淺香隆
(東海大 大学院工学研究科)
,
樋口昌史
(東海大 大学院工学研究科)
,
秋山泰伸
(東海大 大学院工学研究科)
資料名:
Journal of the Society of Inorganic Materials, Japan
(Journal of the Society of Inorganic Materials, Japan)
巻:
23
号:
380
ページ:
34-38
発行年:
2016年01月01日
JST資料番号:
F0275A
ISSN:
1345-3769
CODEN:
JSIJFR
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)