文献
J-GLOBAL ID:201602240795582676
整理番号:16A1001026
キャリア密度最適化によるa-InGaZnO薄膜の熱電特性の改善
Improvement of Thermoelectric Properties of a-InGaZnO Thin Film by Optimizing Carrier Concentration
著者 (4件):
Fujimoto Yuta
(Nara Institute of Science and Technology (NAIST), Ikoma, Nara, Japan)
,
Uenuma Mutsunori
(Nara Institute of Science and Technology (NAIST), Ikoma, Nara, Japan)
,
Ishikawa Yasuaki
(Nara Institute of Science and Technology (NAIST), Ikoma, Nara, Japan)
,
Uraoka Yukiharu
(Nara Institute of Science and Technology (NAIST), Ikoma, Nara, Japan)
資料名:
Journal of Electronic Materials
(Journal of Electronic Materials)
巻:
45
号:
3
ページ:
1377-1381
発行年:
2016年03月
JST資料番号:
D0277B
ISSN:
0361-5235
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)