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文献
J-GLOBAL ID:201602240795582676   整理番号:16A1001026

キャリア密度最適化によるa-InGaZnO薄膜の熱電特性の改善

Improvement of Thermoelectric Properties of a-InGaZnO Thin Film by Optimizing Carrier Concentration
著者 (4件):
Fujimoto Yuta
(Nara Institute of Science and Technology (NAIST), Ikoma, Nara, Japan)
Uenuma Mutsunori
(Nara Institute of Science and Technology (NAIST), Ikoma, Nara, Japan)
Ishikawa Yasuaki
(Nara Institute of Science and Technology (NAIST), Ikoma, Nara, Japan)
Uraoka Yukiharu
(Nara Institute of Science and Technology (NAIST), Ikoma, Nara, Japan)

資料名:
Journal of Electronic Materials  (Journal of Electronic Materials)

巻: 45  号:ページ: 1377-1381  発行年: 2016年03月 
JST資料番号: D0277B  ISSN: 0361-5235  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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