文献
J-GLOBAL ID:201602264629432410
整理番号:16A1059966
ナノスケールでの光学的に制御された磁場エッチング【Powered by NICT】
Optically controlled magnetic-field etching on the nano-scale
著者 (8件):
Takashi Yatsui
(School of Engineering, University of Tokyo)
,
Toshiki Tsuboi
(School of Engineering, University of Tokyo)
,
Maiku Yamaguchi
(School of Engineering, University of Tokyo)
,
Katsuyuki Nobusada
(Department of Theoretical and Computational Molecular Science, Institute for Molecular Science)
,
Satoshi Tojo
(Faculty of Science and Engineering, Chuo University)
,
Fabrice Stehlin
(Institut de Sciences des Materiaux de Mulhouse (IS2M),CNRSUMR7361, Universitede Haute-Alsace)
,
Olivier Soppera
(Institut de Sciences des Materiaux de Mulhouse (IS2M),CNRSUMR7361, Universitede Haute-Alsace)
,
Daniel Bloch
(Laboratoire de Physique des Lasers,UMR 7538 du CNRS, UniversiteParis13-Sorbonne-Paris-CiteF-93430 Villetaneuse)
資料名:
Guang: Kexue Yu Yingyong
(Guang: Kexue Yu Yingyong)
巻:
5
号:
2
ページ:
lsa201654-001-lsa201654-007
発行年:
2016年
JST資料番号:
C2855A
ISSN:
2095-5545
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
中国 (CHN)
言語:
英語 (EN)