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J-GLOBAL ID:201602264629432410   整理番号:16A1059966

ナノスケールでの光学的に制御された磁場エッチング【Powered by NICT】

Optically controlled magnetic-field etching on the nano-scale
著者 (8件):
Takashi Yatsui
(School of Engineering, University of Tokyo)
Toshiki Tsuboi
(School of Engineering, University of Tokyo)
Maiku Yamaguchi
(School of Engineering, University of Tokyo)
Katsuyuki Nobusada
(Department of Theoretical and Computational Molecular Science, Institute for Molecular Science)
Satoshi Tojo
(Faculty of Science and Engineering, Chuo University)
Fabrice Stehlin
(Institut de Sciences des Materiaux de Mulhouse (IS2M),CNRSUMR7361, Universitede Haute-Alsace)
Olivier Soppera
(Institut de Sciences des Materiaux de Mulhouse (IS2M),CNRSUMR7361, Universitede Haute-Alsace)
Daniel Bloch
(Laboratoire de Physique des Lasers,UMR 7538 du CNRS, UniversiteParis13-Sorbonne-Paris-CiteF-93430 Villetaneuse)

資料名:
Guang: Kexue Yu Yingyong  (Guang: Kexue Yu Yingyong)

巻:号:ページ: lsa201654-001-lsa201654-007  発行年: 2016年 
JST資料番号: C2855A  ISSN: 2095-5545  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 英語 (EN)
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