文献
J-GLOBAL ID:201602265085642320
整理番号:16A1277511
ボイドフリー親水化接合のための拡張表面活性化接合プロセス
Combined Surface-Activated Bonding Process for Novel Void-Free Hydrophilic Bonding Approach
著者 (4件):
HE Ran
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
FUJINO Masahisa
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
YAMAUCHI Akira
(Bondtech Co., Ltd., Kyoto, JPN)
,
SUGA Tadatomo
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
資料名:
マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集
(エレクトロニクス実装学会秋季大会論文集)
巻:
24th
ページ:
271-274
発行年:
2014年09月04日
JST資料番号:
X0060A
ISSN:
2434-396X
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)