文献
J-GLOBAL ID:201602269816129265
整理番号:16A0919257
歪分布を有する台形SiナノワイヤのX線回折曲線の分析
Analysis of X-ray diffraction curves of trapezoidal Si nanowires with a strain distribution
著者 (4件):
Takeuchi Teruaki
(Research organization for Nano & Life innovation, Waseda University, 120-5, 513 Wasedatsurumaki-cho, Shinjuku-ku, Tokyo 162-0041, Japan)
,
Tatsumura Kosuke
(Faculty of Science and Engineering, Waseda University, 3-4-1 Ohkubo, Shinjuku-ku, Tokyo 169-8555, Japan)
,
Shimura Takayoshi
(Graduate School of Engineering, Osaka University, 2-1 Yamadaoka, Suita-shi, Osaka 565-0871, Japan)
,
Ohdomari Iwao
(Faculty of Science and Engineering, Waseda University, 3-4-1 Ohkubo, Shinjuku-ku, Tokyo 169-8555, Japan)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
612
ページ:
116-121
発行年:
2016年08月01日
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)