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J-GLOBAL ID：201702210079077018 整理番号：17A1007025

レーザー照射を用いるレジスト除去現象の分析

Analysis of Resist Removal Phenomenon Using Laser Irradiation

著者 (9件)：

Kamimura Tomosumi

(Department of Electronics, Information and Communication Engineering, Osaka Institute of Technology)

,

Kuramae Hirouki

(Department of Robotics, Osaka Institute of Technology)

,

Yamashiro Takayuki

(Department of Electronics, Information and Communication Engineering, Osaka Institute of Technology)

,

Nuno Kosuke

(Department of Electronics, Information and Communication Engineering, Osaka Institute of Technology)

,

Umeda Yuji

(Department of Electronics, Information and Communication Engineering, Osaka Institute of Technology)

,

Tsujimoto Singo

(Department of Electronics, Information and Communication Engineering, Osaka Institute of Technology)

,

Nakamura Ryosuke

(Science & Technology Entrepreneurship Laboratory, Osaka University)

,

Nishiyama Takashi

(Department of Applied Chemistry and Bioengineering, Graduate School of Engineering, Osaka City University)

,

Horibe Hideo

(Department of Applied Chemistry and Bioengineering, Graduate School of Engineering, Osaka City University)

資料名：

Journal of Photopolymer Science and Technology (Journal of Photopolymer Science and Technology)

巻： 30 号： 3 ページ： 291-295(J-STAGE) 発行年： 2017年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

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