文献
J-GLOBAL ID:201702221253061906
整理番号:17A0381443
MM~2地域上の40nm広パターンの1:1移動のsam層を通したElectrostamping【Powered by NICT】
Electrostamping through sam layer for 1:1 transfer of 40-NM-wide patterns over MM2 area
著者 (3件):
Li Yongfang
(Corporate Research & Development Center, Toshiba Corporation, Kawasaki, Japan)
,
Toshiyoshi Hiroshi
(Research Center for Advanced Science and Technology, The University of Tokyo, Tokyo, Japan)
,
Fujita Hiroyuki
(Institute of Industrial Science, The University of Tokyo, Tokyo, Japan)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2017
号:
MEMS
ページ:
278-281
発行年:
2017年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)