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資料名：
巻： 56 号： 5S2 ページ： 05EB04.1-05EB04.4 発行年： 2017年05月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：201702226736097021
整理番号：17A1003326
冷プラズマ焼結を使用する膜対膜電気接続のための全ての銅の接触技術
All-copper contacting technology for film-vs-film electric connection using cool plasma sintering
SHIRAKAWA Naoki
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 56 号： 5S2 ページ： 05EB04.1-05EB04.4 発行年： 2017年05月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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