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文献
J-GLOBAL ID:201702237534725785   整理番号:17A1181733

両面陽極酸化多孔質アルミナを用いた抵抗スイッチングメモリ構造の作製【Powered by NICT】

Fabrication of resistive switching memory structure using double-sided-anodized porous alumina
著者 (3件):
Morishita Yoshitaka
(Department of Applied Physics, Tokyo University of Agriculture and Technology, Koganei, Tokyo 184-8588, Japan)
Hosono Takaya
(Department of Applied Physics, Tokyo University of Agriculture and Technology, Koganei, Tokyo 184-8588, Japan)
Ogawa Hiroto
(Department of Applied Physics, Tokyo University of Agriculture and Technology, Koganei, Tokyo 184-8588, Japan)

資料名:
Solid-State Electronics  (Solid-State Electronics)

巻: 131  ページ: 30-33  発行年: 2017年 
JST資料番号: H0225A  ISSN: 0038-1101  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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