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J-GLOBAL ID：201702272370801938 整理番号：17A0132884

ナノ構造CoFeB/SiO₂ナノ構造薄膜中の電子ビーム誘起ホウ素拡散のその場TEM研究と相及び微細構造発展への効果

In situ TEM study of electron-beam radiation induced boron diffusion and effects on phase and microstructure evolution in nanostructured CoFeB/SiO₂ thin film

著者 (8件)：

Liu B. H.

(Department of Product, Test and Failure Analysis, Globalfoundries Singapore Pte. Ltd., 738406 Singapore)

,

Teo H. W.

(Department of Quality and Reality Analysis, Globalfoundries Singapore Pte. Ltd., 738406 Singapore)

,

Mo Z. H.

(Department of Quality and Reality Analysis, Globalfoundries Singapore Pte. Ltd., 738406 Singapore)

,

Mai Z. H.

(Department of Product, Test and Failure Analysis, Globalfoundries Singapore Pte. Ltd., 738406 Singapore)

,

Lam J.

(Department of Product, Test and Failure Analysis, Globalfoundries Singapore Pte. Ltd., 738406 Singapore)

,

Xue J. M.

(Department of Materials Science and Engineering, National University of Singapore, 117575 Singapore)

,

Zhao Y. Z.

(Department of Product, Test and Failure Analysis, Globalfoundries Singapore Pte. Ltd., 738406 Singapore)

,

Tan P. K.

(Department of Product, Test and Failure Analysis, Globalfoundries Singapore Pte. Ltd., 738406 Singapore)

資料名：

Journal of Applied Physics (Journal of Applied Physics)

巻： 121 号： 1 ページ： 015111-015111-11 発行年： 2017年01月07日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

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