文献
J-GLOBAL ID:201702281680636459
整理番号:17A0605016
GaN基板のプラズマ融合CMP技術-エタノールバブリング・Arプラズマを用いたプラズマ融合CMP特性とその評価-
Plasma fusion CMP technology for GaN substrates-Evaluation of processing characteristics for plasma fusion CMP using Ar plasma and ethanol bubbling-
著者 (11件):
山崎直樹
(九大)
,
山崎直樹
(並木精密宝石)
,
土肥俊郎
(九大)
,
會田英雄
(九大)
,
會田英雄
(並木精密宝石)
,
KIM Seongwoo
(並木精密宝石)
,
大山幸希
(並木精密宝石)
,
黒河周平
(九大)
,
佐野泰久
(大阪大)
,
白谷正治
(九大)
,
山西陽子
(九大)
資料名:
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻:
117
号:
7(SDM2017 1-8)
ページ:
19-23
発行年:
2017年04月13日
JST資料番号:
S0532B
ISSN:
0913-5685
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)