文献
J-GLOBAL ID:201702281731210285
整理番号:17A1065569
SiC表面上のゼロ層グラフェンの欠陥を通じるCuのインターカレーションに関する理論的研究
Theoretical Study of Cu Intercalation through a Defect in Zero-Layer Graphene on SiC Surface
著者 (7件):
ORIMOTO Yuuichi
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
OTSUKA Kohei
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
YAGYU Kazuma
(Fukuoka Univ., Fukuoka, JPN)
,
TOCHIHARA Hiroshi
(Fukuoka Univ., Fukuoka, JPN)
,
SUZUKI Takayuki
(Fukuoka Univ., Fukuoka, JPN)
,
AOKI Yuriko
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
AOKI Yuriko
(JST-CREST, Saitama, JPN)
資料名:
Journal of Physical Chemistry C
(Journal of Physical Chemistry C)
巻:
121
号:
13
ページ:
7294-7302
発行年:
2017年04月06日
JST資料番号:
W1877A
ISSN:
1932-7447
CODEN:
JPCCCK
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)