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J-GLOBAL ID:201702283723718910   整理番号:17A0551133

エピタキシャルHfO2基膜における強誘電相の安定性-RE2O3-HfO2vs ZrO2-HfO2-

著者 (8件):
三村和仙
(東京工大)
片山きりは
(東京工大)
清水荘雄
(東京工大)
木口賢紀
(東北大 金属材料研)
赤間章裕
(東北大 金属材料研)
今野豊彦
(東北大 金属材料研)
坂田修身
(NIMS)
舟窪浩
(東京工大)

資料名:
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))

巻: 64th  ページ: ROMBUNNO.17p-304-2  発行年: 2017年03月01日 
JST資料番号: Y0054B  ISSN: 2436-7613  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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