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J-GLOBAL ID:201702284452621714   整理番号:17A1421035

プラズマ化学蒸着で作製したsilicon/nitrogen組み込みダイヤモンド状炭素膜の特性に及ぼす原料ガスの影響【Powered by NICT】

Effects of source gases on the properties of silicon/nitrogen-incorporated diamond-like carbon films prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition
著者 (6件):
Nakazawa Hideki
(Graduate School of Science and Technology, Hirosaki University, 3 Bunkyo, Hirosaki, Aomori 036-8561, Japan)
Magara Kohei
(Graduate School of Science and Technology, Hirosaki University, 3 Bunkyo, Hirosaki, Aomori 036-8561, Japan)
Takami Takahiro
(Graduate School of Science and Technology, Hirosaki University, 3 Bunkyo, Hirosaki, Aomori 036-8561, Japan)
Ogasawara Haruka
(Graduate School of Science and Technology, Hirosaki University, 3 Bunkyo, Hirosaki, Aomori 036-8561, Japan)
Enta Yoshiharu
(Graduate School of Science and Technology, Hirosaki University, 3 Bunkyo, Hirosaki, Aomori 036-8561, Japan)
Suzuki Yushi
(Graduate School of Science and Technology, Hirosaki University, 3 Bunkyo, Hirosaki, Aomori 036-8561, Japan)

資料名:
Thin Solid Films  (Thin Solid Films)

巻: 636  ページ: 177-182  発行年: 2017年 
JST資料番号: B0899A  ISSN: 0040-6090  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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