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著者 (6件)：
資料名：
巻： 636 ページ： 177-182 発行年： 2017年
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：201702284452621714
整理番号：17A1421035
プラズマ化学蒸着で作製したsilicon/nitrogen組み込みダイヤモンド状炭素膜の特性に及ぼす原料ガスの影響【Powered by NICT】
Effects of source gases on the properties of silicon/nitrogen-incorporated diamond-like carbon films prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition
Nakazawa Hideki
(Graduate School of Science and Technology, Hirosaki University, 3 Bunkyo, Hirosaki, Aomori 036-8561, Japan)
,
Magara Kohei
(Graduate School of Science and Technology, Hirosaki University, 3 Bunkyo, Hirosaki, Aomori 036-8561, Japan)
,
Takami Takahiro
(Graduate School of Science and Technology, Hirosaki University, 3 Bunkyo, Hirosaki, Aomori 036-8561, Japan)
,
Ogasawara Haruka
(Graduate School of Science and Technology, Hirosaki University, 3 Bunkyo, Hirosaki, Aomori 036-8561, Japan)
,
Enta Yoshiharu
(Graduate School of Science and Technology, Hirosaki University, 3 Bunkyo, Hirosaki, Aomori 036-8561, Japan)
,
Suzuki Yushi
(Graduate School of Science and Technology, Hirosaki University, 3 Bunkyo, Hirosaki, Aomori 036-8561, Japan)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 636 ページ： 177-182 発行年： 2017年
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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