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J-GLOBAL ID:201802215773994046   整理番号:18A1859637

三ハロゲン化物気相エピタクシーによるn極GaN成長の成長温度と過剰塩素効果【JST・京大機械翻訳】

Growth temperatures and the excess chlorine effect of N-Polar GaN growth via tri-halide vapor phase epitaxy
著者 (8件):
Takekawa Nao
(Department of Applied Chemistry, Graduate School of Engineering, Tokyo University of Agriculture & Technology, Koganei, Tokyo 184-8588, Japan)
Hayashida Naoto
(Department of Applied Chemistry, Graduate School of Engineering, Tokyo University of Agriculture & Technology, Koganei, Tokyo 184-8588, Japan)
Ohzeki Daisuke
(Department of Applied Chemistry, Graduate School of Engineering, Tokyo University of Agriculture & Technology, Koganei, Tokyo 184-8588, Japan)
Yamaguchi Akira
(TAIYO NIPPON SANSO Corporation, 10 Ohkubo, Tsukuba 300-2611 Japan)
Murakami Hisashi
(Department of Applied Chemistry, Graduate School of Engineering, Tokyo University of Agriculture & Technology, Koganei, Tokyo 184-8588, Japan)
Kumagai Yoshinao
(Department of Applied Chemistry, Graduate School of Engineering, Tokyo University of Agriculture & Technology, Koganei, Tokyo 184-8588, Japan)
Matsumoto Koh
(TAIYO NIPPON SANSO Corporation, 10 Ohkubo, Tsukuba 300-2611 Japan)
Koukitu Akinori
(Department of Applied Chemistry, Graduate School of Engineering, Tokyo University of Agriculture & Technology, Koganei, Tokyo 184-8588, Japan)

資料名:
Journal of Crystal Growth  (Journal of Crystal Growth)

巻: 502  ページ: 7-13  発行年: 2018年 
JST資料番号: B0942A  ISSN: 0022-0248  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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