文献
J-GLOBAL ID:201802217311965261
整理番号:18A1490525
ヘリウムイオン顕微鏡におけるアクティブ電圧コントラストイメージングのためのその場電圧応用システム【JST・京大機械翻訳】
In situ voltage-application system for active voltage contrast imaging in helium ion microscope
著者 (5件):
Sakai Chikako
(National Institute for Materials Science, Tsukuba, Ibaraki 305-0047, Japan)
,
Ishida Nobuyuki
(National Institute for Materials Science, Tsukuba, Ibaraki 305-0047, Japan)
,
Nagano Shoko
(National Institute for Materials Science, Tsukuba, Ibaraki 305-0047, Japan)
,
Onishi Keiko
(National Institute for Materials Science, Tsukuba, Ibaraki 305-0047, Japan)
,
Fujita Daisuke
(National Institute for Materials Science, Tsukuba, Ibaraki 305-0047, Japan)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻:
36
号:
4
ページ:
042903-042903-5
発行年:
2018年
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
2166-2746
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)