文献
J-GLOBAL ID:201802225078233575
整理番号:18A0576198
固相エピタクシー後のSi(111)上のGe層の表面形態と構造【Powered by NICT】
Surface morphology and structure of Ge layer on Si(111) after solid phase epitaxy
著者 (3件):
Yoshida Ryoma
(Graduate School of Nanobioscience, Yokohama City University, 22-2, Seto, Kanazawa-ku, Yokohama, 236-0027, Japan)
,
Tosaka Aki
(Graduate School of Nanobioscience, Yokohama City University, 22-2, Seto, Kanazawa-ku, Yokohama, 236-0027, Japan)
,
Shigeta Yukichi
(Graduate School of Nanobioscience, Yokohama City University, 22-2, Seto, Kanazawa-ku, Yokohama, 236-0027, Japan)
資料名:
Surface Science
(Surface Science)
巻:
671
ページ:
43-50
発行年:
2018年
JST資料番号:
C0129B
ISSN:
0039-6028
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)