文献
J-GLOBAL ID:201802225281154070
整理番号:18A0111304
Exposure characteristics of positive tone electron beam resist containing p-chloro-α-methylstyrene
著者 (7件):
OCHIAI Shunsuke
(Yamaguchi Univ., Ube, JPN)
,
TAKAYAMA Tomohiro
(Yamaguchi Univ., Ube, JPN)
,
KISHIMURA Yukiko
(Yamaguchi Univ., Ube, JPN)
,
ASADA Hironori
(Yamaguchi Univ., Ube, JPN)
,
SONODA Manae
(Miyakonojo Coll., Miyakonojo, JPN)
,
IWAKUMA Minako
(Miyakonojo Coll., Miyakonojo, JPN)
,
HOSHINO Ryoichi
(Fine Materal System Inc., Tokyo, JPN)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
10454
ページ:
1045414.1-1045414.6
発行年:
2017年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)