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著者 (8件)：
資料名：
巻： 36 号： 6 ページ： 061509-061509-7 発行年： 2018年
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：201802227680627383
整理番号：18A2167773
中空円筒ターゲットを用いた反応性マグネトロンスパッタリングによるZrON薄膜の堆積【JST・京大機械翻訳】
Deposition of ZrON thin films by reactive magnetron sputtering using a hollow cylindrical target
Iwata Hiroshi
(Department of Physics, Yokohama National University, 79-5 Tokiwadai, Hodogaya, Yokohama 240-8501, Japan)
,
Ishii Hiroki
(Department of Physics, Yokohama National University, 79-5 Tokiwadai, Hodogaya, Yokohama 240-8501, Japan)
,
Kato Daiki
(Department of Physics, Yokohama National University, 79-5 Tokiwadai, Hodogaya, Yokohama 240-8501, Japan)
,
Kawashima Shohei
(Department of Physics, Yokohama National University, 79-5 Tokiwadai, Hodogaya, Yokohama 240-8501, Japan)
,
Kodama Kakeru
(Department of Physics, Yokohama National University, 79-5 Tokiwadai, Hodogaya, Yokohama 240-8501, Japan)
,
Furusawa Masashi
(Department of Physics, Yokohama National University, 79-5 Tokiwadai, Hodogaya, Yokohama 240-8501, Japan)
,
Tanaka Masatoshi
(Department of Physics, Yokohama National University, 79-5 Tokiwadai, Hodogaya, Yokohama 240-8501, Japan)
,
Sekiya Takao
(Department of Physics, Yokohama National University, 79-5 Tokiwadai, Hodogaya, Yokohama 240-8501, Japan)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 36 号： 6 ページ： 061509-061509-7 発行年： 2018年
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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