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資料名：
巻： 57 号： 6S2 ページ： 06JF02.1-06JF02.8 発行年： 2018年06月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：201802229770197890
整理番号：18A1330577
400kHzまでの高周波で動作するマイクロ秒パルスDC容量結合プラズマ化学蒸着システムを用いた水素化非晶質炭素膜の作製
Preparation of hydrogenated amorphous carbon films using a microsecond-pulsed DC capacitive-coupled plasma chemical vapor deposition system operated at high frequency up to 400 kHz
AL MAMUN Md Abdullah
(Kochi Univ. Technol., Kochi, JPN)
,
FURUTA Hiroshi
(Kochi Univ. Technol., Kochi, JPN)
,
HATTA Akimitsu
(Kochi Univ. Technol., Kochi, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 57 号： 6S2 ページ： 06JF02.1-06JF02.8 発行年： 2018年06月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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