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J-GLOBAL ID：201802247168924572 整理番号：18A1022525

高出力誘導結合インパルススパッタリング(ICIS)によるスパッタ炭素種のイオン化【JST・京大機械翻訳】

Ionization of sputtered carbon species by high-power inductively-coupled impulse sputtering (ICIS)

著者 (4件)：

Yukimura Ken

(Nanoelectronics Research Institute, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), AIST Tsukuba Central 2, Tsukuba, Ibaraki, 305-8568, Japan)

Yukimura Ken

(Soft-Path Engineering Research Center (SPERC), Faculty of Engineering, Iwate University, Morioka, 020-8551, Japan)

Ogiso Hisato

(Advanced Manufacturing Research Institute, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), 1-2-1 Namiki, Tsukuba, Ibaraki, 305-8564, Japan)

Nakano Shizuka

(Advanced Manufacturing Research Institute, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), 1-2-1 Namiki, Tsukuba, Ibaraki, 305-8564, Japan)

資料名：

Vacuum (Vacuum)

巻： 153 ページ： 195-203 発行年： 2018年
JST資料番号： E0347A ISSN： 0042-207X 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

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