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著者 (4件)：
資料名：
巻： 441 ページ： 773-779 発行年： 2018年
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：201802247660265674
整理番号：18A0615618
CVD反応器中のSi(100)表面の成長からの塩素原子の除去のための新しい経路【Powered by NICT】
Novel pathways for elimination of chlorine atoms from growing Si(100) surfaces in CVD reactors
Kunioshi Nilson
(Graduate School of Creative Science and Engineering, Waseda University, Japan)
,
Hagino Sho
(Graduate School of Creative Science and Engineering, Waseda University, Japan)
,
Fuwa Akio
(Graduate School of Creative Science and Engineering, Waseda University, Japan)
,
Yamaguchi Katsunori
(Graduate School of Creative Science and Engineering, Waseda University, Japan)
資料名：
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻： 441 ページ： 773-779 発行年： 2018年
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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