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J-GLOBAL ID:201802251927645761   整理番号:18A2218089

水素化非晶質炭素膜の耐食性に及ぼすSi混入の影響【JST・京大機械翻訳】

Effect of Si incorporation on corrosion resistance of hydrogenated amorphous carbon film
著者 (6件):
Nishikawa Jumpei
(Department of Mechanical Engineering, School of Engineering, Tokyo Institute of Technology, 2-12-1 Ookayama, Meguro-ku, Tokyo 152-8552, Japan)
Sugihara Naoki
(Department of Mechanical Engineering, School of Engineering, Tokyo Institute of Technology, 2-12-1 Ookayama, Meguro-ku, Tokyo 152-8552, Japan)
Nakano Masayuki
(Department of Chemical Science and Engineering, National Institute of Technology, Tokyo College, 1220-2 Kunugida, Hachioji, Tokyo 193-0997, Japan)
Hieda Junko
(Department of Chemical Systems Engineering, Nagoya University, Furo-cho, Chikusa-ku, Nagoya 464-8603, Japan)
Ohtake Naoto
(Laboratory for Future Interdisciplinary Research of Science and Technology (FIRST), Institute of Innovative Research (IIR), Tokyo Institute of Technology, 4259 Nagatsuta-cho, Midori-ku, Yokohama, Kanagawa 226-8503, Japan)
Akasaka Hiroki
(Department of Mechanical Engineering, School of Engineering, Tokyo Institute of Technology, 2-12-1 Ookayama, Meguro-ku, Tokyo 152-8552, Japan)

資料名:
Diamond and Related Materials  (Diamond and Related Materials)

巻: 90  ページ: 207-213  発行年: 2018年 
JST資料番号: W0498A  ISSN: 0925-9635  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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