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J-GLOBAL ID：201802251927645761 整理番号：18A2218089

水素化非晶質炭素膜の耐食性に及ぼすSi混入の影響【JST・京大機械翻訳】

Effect of Si incorporation on corrosion resistance of hydrogenated amorphous carbon film

著者 (6件)：

Nishikawa Jumpei

(Department of Mechanical Engineering, School of Engineering, Tokyo Institute of Technology, 2-12-1 Ookayama, Meguro-ku, Tokyo 152-8552, Japan)

Sugihara Naoki

(Department of Mechanical Engineering, School of Engineering, Tokyo Institute of Technology, 2-12-1 Ookayama, Meguro-ku, Tokyo 152-8552, Japan)

Nakano Masayuki

(Department of Chemical Science and Engineering, National Institute of Technology, Tokyo College, 1220-2 Kunugida, Hachioji, Tokyo 193-0997, Japan)

Hieda Junko

(Department of Chemical Systems Engineering, Nagoya University, Furo-cho, Chikusa-ku, Nagoya 464-8603, Japan)

Ohtake Naoto

(Laboratory for Future Interdisciplinary Research of Science and Technology (FIRST), Institute of Innovative Research (IIR), Tokyo Institute of Technology, 4259 Nagatsuta-cho, Midori-ku, Yokohama, Kanagawa 226-8503, Japan)

Akasaka Hiroki

(Department of Mechanical Engineering, School of Engineering, Tokyo Institute of Technology, 2-12-1 Ookayama, Meguro-ku, Tokyo 152-8552, Japan)

資料名：

Diamond and Related Materials (Diamond and Related Materials)

巻： 90 ページ： 207-213 発行年： 2018年
JST資料番号： W0498A ISSN： 0925-9635 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

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