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著者 (4件)：
資料名：
巻： 155 ページ： 28-35 発行年： 2018年
JST資料番号： W0443A ISSN： 0927-0256 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：201802260402119723
整理番号：18A1946040
塩化水素との相互作用によるSi(100)表面のエピタキシャル成長を抑制する反応の動力学【JST・京大機械翻訳】
Dynamics of reactions inhibiting epitaxial growth of Si(100) surfaces via interaction with hydrogen chloride
Kunioshi Nilson
(Graduate School of Creative Science and Engineering, Waseda University, 3-4-1 Ohkubo, Shinjuku 169-8555, Tokyo, Japan)
,
Fujimura Yoshiki
(Graduate School of Creative Science and Engineering, Waseda University, 3-4-1 Ohkubo, Shinjuku 169-8555, Tokyo, Japan)
,
Fuwa Akio
(Graduate School of Creative Science and Engineering, Waseda University, 3-4-1 Ohkubo, Shinjuku 169-8555, Tokyo, Japan)
,
Yamaguchi Katsunori
(Graduate School of Creative Science and Engineering, Waseda University, 3-4-1 Ohkubo, Shinjuku 169-8555, Tokyo, Japan)
資料名：
Computational Materials Science
(Computational Materials Science)
巻： 155 ページ： 28-35 発行年： 2018年
JST資料番号： W0443A ISSN： 0927-0256 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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